產品簡介

北京正置金相顯微鏡，采用平場消色差光學系統和落射式柯拉照明系統，同時在落射照明系列中設計防反結構，有效防止反射光干擾成像光線，從而使成像更清晰、視場襯度更好，提供穩定可靠的操作機構,使成像更清晰,操作更簡便，廣泛應用于各類半導體硅晶片檢測、材料科學研究、地質礦物分析及精密工程等學科領域。

正置金相顯微鏡 金相顯微鏡

型號：GH/XJZ-A1/A2

北京正置金相顯微鏡，采用平場消色差光學系統和落射式柯拉照明系統，同時在落射照明系列中設計防反結構，有效防止反射光干擾成像光線，從而使成像更清晰、視場襯度更好，提供穩定可靠的操作機構,使成像更清晰,操作更簡便，廣泛應用于各類半導體硅晶片檢測、材料科學研究、地質礦物分析及精密工程等學科領域。
     北京正置金相顯微鏡鏡體采用全新的人機工程學設計，結構勻稱，實現鏡體擴展積木化，工作臺、光強與粗微調的低位操作，提高了使用的舒適性。

光學系統：平場消色差光學系統鏡體：采用全新的人機工程學設計，“C”型基座設計保證了高度的穩定性與剛性物鏡：4X、10X、40XS 195金相平場消色差物鏡目鏡：PL10X高眼點平場目鏡，線視場 18mm鏡筒：鉸鏈式雙目觀察頭，鏡筒30°傾斜鉸鏈式三目觀察頭，鏡筒30°傾斜單目觀察筒，鏡筒45°傾斜工作臺：移動機械平臺上，附設180X145mm平板平臺調焦機構：粗微調同軸，帶粗調上限位和松緊調節裝置照明系統：落射照明系統，90-240V寬電壓光源采用Philips5761型6V/30W鹵素燈選購件：攝像、攝影、偏光裝置光學系統：平場消色差光學系統鏡體：采用全新的人機工程學設計，“C”型基座設計保證了高度的穩定性與剛性物鏡：4X、10X、40XS 195金相平場消色差物鏡目鏡：PL10X高眼點平場目鏡，線視場 18mm鏡筒：鉸鏈式雙目觀察頭，鏡筒30°傾斜鉸鏈式三目觀察頭，鏡筒30°傾斜單目觀察筒，鏡筒45°傾斜工作臺：移動機械平臺上，附設180X145mm平板平臺調焦機構：粗微調同軸，帶粗調上限位和松緊調節裝置照明系統：落射照明系統，90-240V寬電壓光源采用Philips5761型6V/30W鹵素燈選購件：攝像、攝影、偏光裝置光學系統：平場消色差光學系統鏡體：采用全新的人機工程學設計，“C”型基座設計保證了高度的穩定性與剛性物鏡：4X、10X、40XS 195金相平場消色差物鏡目鏡：PL10X高眼點平場目鏡，線視場 18mm鏡筒：鉸鏈式雙目觀察頭，鏡筒30°傾斜鉸鏈式三目觀察頭，鏡筒30°傾斜單目觀察筒，鏡筒45°傾斜工作臺：移動機械平臺上，附設180X145mm平板平臺調焦機構：粗微調同軸，帶粗調上限位和松緊調節裝置照明系統：落射照明系統，90-240V寬電壓光源采用Philips5761型6V/30W鹵素燈選購件：攝像、攝影、偏光裝置光學系統：平場消色差光學系統鏡體：采用全新的人機工程學設計，“C”型基座設計保證了高度的穩定性與剛性物鏡：4X、10X、40XS 195金相平場消色差物鏡目鏡：PL10X高眼點平場目鏡，線視場 18mm鏡筒：鉸鏈式雙目觀察頭，鏡筒30°傾斜鉸鏈式三目觀察頭，鏡筒30°傾斜單目觀察筒，鏡筒45°傾斜工作臺：移動機械平臺上，附設180X145mm平板平臺調焦機構：粗微調同軸，帶粗調上限位和松緊調節裝置照明系統：落射照明系統，90-240V寬電壓光源采用Philips5761型6V/30W鹵素燈選購件：攝像、攝影、偏光裝置